2021-12-20
半導體（FAB）潔凈室中相對濕度的目標值大約控制在30至50%的范圍內(nèi)，允許誤差在±1%的狹窄的范圍內(nèi)，例如光刻區(qū)──或者在遠紫外線處理（DUV）區(qū)甚至更小──而在其他地方則可以放松到±5%的范圍內(nèi)。
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電子廠房潔凈工程
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22年初心不變，只為做好一件事，合景智慧建設(shè)（廣東）有限公司始終認為，一個好的產(chǎn)品，必須是優(yōu)質(zhì)的潔凈空間所賦予的品質(zhì)。合景凈化，行業(yè)知名品牌凈化工程公司，您值得托付。 -
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